Китайская полупроводниковая отрасль успела создать внушительный запас иммерсионного литографического оборудования ASML. По оценке исследователей, к началу 2026 года предприятия страны приобрели около 343 DUV-систем, значительную часть которых потенциально можно задействовать не только на зрелых техпроцессах, но и при выпуске более сложных микросхем.

Особое значение имеет парк установок ASML Twinscan NXT:1980i — таких машин у китайских компаний насчитывается примерно 270. При использовании многократного экспонирования они способны участвовать в производстве 7-нм логических кристаллов и памяти HBM2e. Это означает, что уже поставленное оборудование может ещё долго поддерживать выпуск компонентов для китайских ИИ-ускорителей, даже если экспортные ограничения в дальнейшем станут значительно жёстче.

Сотни литографов уже находятся в Китае

Согласно оценке вашингтонского Центра технологий и государственного управления, к началу 2026 года предприятия, принадлежащие китайским компаниям, располагали примерно 343 иммерсионными DUV-литографами.

Около 270 машин относятся к модели ASML Twinscan NXT:1980i. Особенно активно оборудование закупалось непосредственно перед дальнейшим ужесточением экспортного контроля.

По подсчётам исследователей, в 2024 году китайские предприятия получили около 90 подобных систем, а в 2025-м — ещё примерно 89. Общая стоимость закупленного за эти два года оборудования превысила 13 млрд долларов.

Таким образом, речь идёт уже не об отдельных производственных линиях, а о крупном парке высокотехнологичного оборудования, способном сохранять ценность в течение многих лет.

Почему DUV остаётся важной технологией

Наиболее современные полупроводники сегодня связывают прежде всего с EUV-литографией. Китайские компании не имеют возможности свободно приобретать такие установки ASML из-за действующих экспортных ограничений.

Однако отсутствие EUV само по себе не исключает производство достаточно сложных микросхем.

Иммерсионная DUV-литография использует более длинную волну, поэтому для формирования очень маленьких элементов приходится применять дополнительные технологические приёмы, включая многократное нанесение и экспонирование слоёв.

Такой подход сложнее, увеличивает количество производственных операций и может отрицательно сказываться на себестоимости и выходе годных кристаллов. Тем не менее он позволяет приблизиться к технологическим нормам, которые обычно ассоциируются с более современным литографическим оборудованием.

Именно поэтому имеющиеся у Китая NXT:1980i представляют значительно больший интерес, чем обычные установки для зрелых техпроцессов.

Литографы можно использовать на более сложных производствах

Исследователи обращают внимание ещё на одну особенность ситуации. Оборудование, первоначально закупленное для определённого предприятия или сравнительно зрелого технологического процесса, теоретически можно переместить на другую линию и задействовать для более сложных задач.

В частности, возможности NXT:1980i позволяют использовать эти системы при производстве 7-нм логических микросхем. Кроме того, оборудование подходит для ряда операций, необходимых при выпуске HBM2e — высокоскоростной памяти с большой пропускной способностью.

Такая память особенно важна для вычислительных ускорителей, поскольку производительность современных ИИ-систем зависит не только от самих вычислительных блоков, но и от скорости обмена данными с памятью.

В качестве одного из потенциальных направлений применения исследователи называют китайские ИИ-ускорители семейства Huawei Ascend.

Одних машин ASML всё равно недостаточно

Большой запас литографического оборудования не означает, что Китай автоматически получает возможность без ограничений выпускать современные процессоры.

Производство полупроводников представляет собой длинную цепочку технологических операций. Помимо литографии требуются системы нанесения и травления материалов, измерительное и контрольное оборудование, химические компоненты, фотошаблоны, развитая инфраструктура и множество других технологий.

Не менее важен выход годных кристаллов.

Если значительная доля произведённых чипов оказывается дефектной, формально работающий техпроцесс может оставаться слишком дорогим для действительно массового производства.

При использовании DUV для технологических норм уровня 7 нм эта проблема становится особенно заметной из-за необходимости многократного формирования отдельных слоёв.

Поэтому сотни литографов следует рассматривать как важную часть производственной базы, но не как самостоятельное решение всех проблем китайской микроэлектроники.

Экспортный контроль вводился постепенно

Нидерланды начали серьёзнее ограничивать экспорт наиболее производительных DUV-систем в сентябре 2023 года. Под лицензирование тогда попали NXT:2000i и более современные модели.

Примерно через год требования распространили также на NXT:1970i и NXT:1980i.

При этом лицензирование не равнозначно абсолютному запрету. В отдельных случаях поставки определённых моделей по-прежнему могут получать разрешение.

Авторы исследования считают именно эту особенность одним из слабых мест существующей системы экспортного контроля. Пока оборудование продолжает поступать в страну, китайские предприятия могут увеличивать парк машин, которые впоследствии способны использоваться значительно дольше первоначального периода поставок.

Китай был крупнейшим рынком для оборудования ASML

Масштаб китайских закупок хорошо заметен и по финансовым результатам самого производителя литографических систем.

В 2024 году Китай обеспечил 41% чистых продаж систем ASML. В 2025 году его доля составляла уже 33%.

После усиления ограничений показатель начал быстро снижаться. В первом квартале 2026 года Китай обеспечил 19% продаж систем компании, а во втором квартале доля уменьшилась до 14%.

Таким образом, пик закупок пришёлся на период, когда китайские предприятия ещё имели возможность активно наращивать парк доступного оборудования.

Насколько велики потенциальные производственные мощности

Исследователи попытались оценить долгосрочное влияние дальнейших поставок оборудования на китайскую индустрию искусственного интеллекта.

В максимально благоприятном теоретическом сценарии продолжение импорта литографических систем могло бы к 2035 году обеспечить производственные мощности, соответствующие вычислительной производительности до 434 млн ускорителей Nvidia H100 в год.

Если же поставки иммерсионного оборудования полностью прекратятся начиная с 2027 года, расчётный предел уменьшается примерно до 153 млн H100-эквивалентов ежегодно.

Однако эти цифры важно правильно интерпретировать.

Речь не идёт о прогнозе выпуска сотен миллионов физических видеокарт или ускорителей H100. Исследователи используют H100-эквивалент исключительно как условную единицу вычислительной мощности.

Кроме того, подобная модель предполагает, что остальные ограничения китайской полупроводниковой промышленности будут устранены. В реальном производстве этого может не произойти.

Исследователи предлагают дополнительно ужесточить ограничения

Авторы работы Николас Браун и Саиф Хан, ранее работавшие в американских государственных структурах, считают существующие меры недостаточными.

Они предлагают прекратить поставки в Китай всех современных иммерсионных DUV-литографов, а также ограничить обслуживание уже установленного оборудования, если оно используется на предприятиях, выпускающих передовые микросхемы.

При этом речь не идёт о полном запрете всей DUV-литографии. Более старые сухие установки предлагается оставить доступными для производств, использующих зрелые технологические нормы.

Пока подобные меры остаются предложением, а не новым действующим запретом.

Уже поставленное оборудование становится стратегическим ресурсом

Даже полное прекращение новых поставок не позволит быстро лишить китайскую полупроводниковую промышленность уже созданной производственной базы.

Литографические системы относятся к дорогостоящему промышленному оборудованию с продолжительным сроком эксплуатации. При наличии технического обслуживания, комплектующих и необходимой инфраструктуры они способны работать много лет.

Поэтому значение приобретённых Китаем сотен иммерсионных машин ASML выходит далеко за рамки статистики импорта за несколько отдельных лет.

Главный вопрос теперь заключается не только в том, сколько новых литографов смогут получить китайские предприятия, но и в том, насколько эффективно они сумеют использовать уже имеющийся парк оборудования. Если производителям удастся улучшать технологические процессы, повышать выход годных кристаллов и развивать остальные этапы производства, накопленные DUV-системы способны ещё долго оставаться одним из ключевых инструментов развития китайской микроэлектроники.