Европейская микроэлектроника укрепляет позиции в гонке техпроцессов. Бельгийский исследовательский центр Imec объявил о приобретении передового EUV-сканера ASML TWINSCAN EXE:5200 с высокой числовой апертурой (High-NA, 0,55). Эта установка открывает доступ к принципиально новому уровню литографии и станет ключевым инструментом для разработки будущих поколений чипов.

Новый уровень разрешения и производительности

Главное преимущество EXE:5200 — существенно более высокая точность формирования структур по сравнению с текущими EUV-системами (NA 0,33).

Система обеспечивает:

• более тонкие элементы при однократной экспозиции

• рост производительности при обработке пластин

• улучшенную стабильность процессов

• более точное совмещение слоёв

Это позволяет упростить производство, сократить количество технологических этапов и снизить издержки, что особенно важно при переходе к узлам ниже 2 нм.

Основа для техпроцессов будущего

Новая установка станет центральным элементом пилотной линии NanoIC в Imec. Она будет работать с 300-мм кремниевыми пластинами и ориентирована на ускоренную разработку технологий следующего поколения.

Речь идёт о переходе к так называемой «ангстремной эпохе», где размеры транзисторов измеряются уже не в нанометрах, а в ангстремах. Это следующий этап эволюции после 2-нм техпроцессов и основа для будущих архитектур логики и памяти.

Почему High-NA EUV — это прорыв

Технология высокой числовой апертуры решает одну из главных проблем современной литографии — необходимость многократной экспозиции.

С её внедрением:

• уменьшается число проходов при печати

• повышается выход годных чипов

• снижается сложность производственных процессов

Кроме того, EXE:5200 поддерживает новые типы фоторезистов, включая материалы на основе оксидов металлов, что критично для дальнейшего уменьшения размеров транзисторов.

От лаборатории к промышленности

Imec и ASML уже несколько лет совместно работают над High-NA EUV в лаборатории в Вельдховене. Там были достигнуты рекордные показатели — например, формирование линий шириной 16 нм за один проход.

Теперь эти наработки будут перенесены в инфраструктуру, максимально приближенную к промышленному производству. Это означает полноценную интеграцию всех этапов — от материалов до метрологии.

Когда начнётся работа

Ожидается, что система EXE:5200 будет полностью введена в эксплуатацию к четвёртому кварталу 2026 года. До этого исследования продолжатся в Нидерландах, чтобы обеспечить непрерывность разработок.

После запуска Imec станет одной из немногих площадок в мире с доступом к подобному оборудованию.

Значение для индустрии

Появление EXE:5200 в Европе — это не просто технологическое обновление, а стратегический шаг.

Он даёт:

• ранний доступ к техпроцессам следующего поколения

• поддержку разработок AI-ускорителей и энергоэффективных чипов

• усиление позиций Европы в глобальной полупроводниковой отрасли

Проект реализуется при участии ASML, а также при поддержке ЕС и правительств Бельгии и Нидерландов в рамках программ Digital Europe и Horizon Europe.

Итог

Установка High-NA EUV-сканера — это фундамент для продолжения закона Мура за пределами 2 нм.

Imec становится ключевой точкой входа в новую технологическую эпоху, где производство чипов выходит на уровень ангстремных масштабов.