Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) ввела в эксплуатацию новый производственный корпус в Оберкохене, продолжая масштабное расширение своих мощностей. Для отрасли полупроводников это событие имеет особое значение, поскольку именно Zeiss остаётся единственным поставщиком ключевой оптики для EUV-литографических систем ASML, а объёмы её производства напрямую влияют на количество выпускаемых сканеров.

Рост спроса на оборудование для производства современных микросхем заставляет ASML увеличивать темпы выпуска литографических установок. Однако без расширения мощностей Zeiss реализовать эти планы невозможно: изготовление сверхточных зеркал и оптических систем занимает месяцы, а производство остаётся одним из самых сложных технологических процессов в мировой промышленности.

Новый производственный корпус стал частью масштабного расширения

Первым завершённым объектом крупного проекта стал новый корпус на площадке Zeiss SMT в немецком городе Оберкохен. Строительство комплекса началось ещё в 2022 году и является частью долгосрочной программы по увеличению выпуска высокоточной оптики.

Расширение предприятия должно помочь компании постепенно нарастить производственные возможности, необходимые для удовлетворения растущего спроса со стороны ASML — крупнейшего в мире производителя литографического оборудования для выпуска современных полупроводников.

Zeiss остаётся незаменимым партнёром ASML

Согласно годовому отчёту ASML за 2025 год, подразделение Carl Zeiss SMT является эксклюзивным поставщиком оптических компонентов для EUV-сканеров. Компания выпускает линзы, зеркала, системы освещения, коллекторы и другие высокоточные элементы, без которых невозможно создание литографических установок.

В отчёте ASML отдельно подчёркивается, что длительная остановка производства у Zeiss фактически лишит компанию возможности выпускать новые EUV-системы. Это делает немецкого производителя одним из самых критически важных участников всей мировой цепочки поставок оборудования для микроэлектроники.

Объёмы закупок также продолжают уверенно расти. Если в 2023 году ASML приобрела продукции и услуг Zeiss SMT на сумму 3,33 млрд евро, то в 2024 году показатель увеличился до 3,95 млрд евро, а по итогам 2025 года достиг уже 4,41 млрд евро.

Спрос на EUV-оборудование продолжает расти

Расширение производства связано не только с текущими потребностями, но и с планами ASML на ближайшие годы.

Финансовый директор компании Роджер Дассен ранее сообщил, что большая часть заказов на Low-NA EUV-сканеры с поставкой в 2027 году уже распределена между заказчиками. На этом фоне ASML намерена увеличить выпуск оборудования примерно на 30 % по сравнению с ожидаемыми 65 системами в текущем году.

Одновременно компания работает над сокращением производственного цикла. Если сейчас сборка одного литографического комплекса занимает около 22 недель, то в перспективе этот показатель планируется уменьшить до 15–16 недель. Кроме того, руководство ASML уже рассматривает возможность дальнейшего расширения производственных мощностей после 2027 года.

Производство оптики остаётся крайне сложным процессом

Несмотря на ввод новых площадей, увеличение объёмов выпуска не произойдёт мгновенно. Производство оптических систем для современных EUV-сканеров относится к числу самых сложных инженерных процессов в мире.

Одна проекционная оптическая система включает свыше 40 тысяч деталей и имеет массу около 12 тонн. Дополнительно система освещения содержит ещё примерно 25 тысяч компонентов.

Особенно трудоёмким остаётся изготовление зеркал сверхвысокой точности. На создание каждого такого элемента уходят месяцы, после чего он проходит длительную проверку в специальной вакуумной камере размером около 5 × 10 метров. Сам испытательный комплекс состоит более чем из 100 тысяч деталей и весит свыше 150 тонн.

ASML продолжает активно инвестировать в развитие Zeiss

Стратегическая важность Zeiss подтверждается масштабной финансовой поддержкой со стороны ASML.

По итогам 2025 года объём выданных компании Zeiss SMT займов достиг 1,91 млрд евро. Кроме того, ASML перечислила ещё 1,19 млрд евро в виде авансов за будущие поставки оптических колонн для литографических систем.

Параллельно Zeiss продолжает расширять собственную производственную инфраструктуру. Помимо нового корпуса в Оберкохене, компания строит ещё один завод в Вецларе, увеличивает площади чистых помещений в Росдорфе и открыла инновационный центр в Южной Корее.

Узкое место постепенно расширяется, но полностью проблема пока не решена

Ввод нового производственного корпуса стал важным шагом для всей полупроводниковой отрасли, однако он не означает мгновенного увеличения выпуска EUV-оборудования. Высокоточная оптика остаётся одним из главных ограничивающих факторов при производстве современных литографических систем.

Тем не менее последовательное расширение мощностей Zeiss и многомиллиардные инвестиции ASML должны постепенно снизить это ограничение. Это позволит ускорить выпуск как существующих Low-NA EUV-сканеров, так и более сложных High-NA EUV-систем, которые станут основой производства микросхем следующих поколений.