Китай сделал очередной важный шаг к технологической независимости в полупроводниковой отрасли. По данным источников, в стране уже началось серийное производство собственных литографических установок DUV с иммерсионной технологией, а первые поставки оборудования производителям микросхем запланированы до конца текущего года.

Хотя новые системы пока не смогут полноценно конкурировать с лучшими разработками нидерландской ASML, их появление позволит китайским компаниям снизить зависимость от зарубежных поставщиков и продолжить развитие собственного производства современных микросхем, несмотря на действующие экспортные ограничения.

Первые заказчики уже определены

Как сообщает издание The Information со ссылкой на источники, знакомые с проектом, первыми получателями новых литографических установок станут крупнейшие китайские производители полупроводников:

• SMIC;
• Hua Hong Semiconductor;
• ChangXin Memory Technologies (CXMT).

По имеющейся информации, в течение 2026 года планируется поставить пять установок, а уже в 2027 году объём производства может увеличиться примерно до 20 машин.

Все три компании входят в число предприятий, которые США стремятся максимально ограничить в доступе к современному оборудованию западных производителей.

Кто разрабатывает оборудование

Название компании-разработчика официально не раскрывается. Известно лишь, что речь идёт о государственной организации, расположенной в Шанхае.

По данным источников, предприятие активно приглашает инженеров и специалистов из других китайских компаний, работающих в сфере литографии. Среди них называется государственный стартап Shanghai Yuliangsheng Technology, который уже несколько лет занимается разработкой собственного оборудования.

Сообщается, что компания SMIC тестирует одну из экспериментальных иммерсионных литографических систем Yuliangsheng ещё с сентября 2025 года.

Большинство компонентов уже китайского производства

Одной из ключевых особенностей новых установок является высокий уровень локализации.

Большая часть узлов и компонентов производится внутри Китая. Однако некоторые критически важные элементы по-прежнему закупаются у японских поставщиков, а ограниченные объёмы их поставок пока не позволяют быстро нарастить выпуск оборудования.

Именно поэтому первые партии литографов будут относительно небольшими.

Что умеют новые DUV-литографы

Иммерсионная DUV-литография остаётся одной из самых сложных технологий производства микросхем.

За один цикл экспонирования такие установки позволяют выпускать изделия по 28-нм техпроцессу. Для получения более современных 7-нм чипов применяется технология многократного нанесения рисунка (multi-patterning), при которой один и тот же слой формируется несколькими последовательными экспозициями.

Такой подход позволяет добиться высокой плотности элементов, однако имеет ряд недостатков:

• значительно увеличивается количество производственных операций;
• возрастает вероятность ошибок совмещения слоёв;
• снижается выход годных микросхем;
• увеличивается себестоимость производства.

Именно поэтому крупнейшие мировые производители постепенно переходят на более современную EUV-литографию.

ASML сохраняет лидерство

Несмотря на успехи Китая, лидер рынка остаётся прежним.

Нидерландская компания ASML в 2026 году рассчитывает поставить около 130 иммерсионных DUV-систем, что примерно соответствует объёмам прошлого года.

При этом руководство компании уже планирует увеличить выпуск подобных установок примерно на 30 % в 2027 году и рассматривает возможность ещё одного аналогичного роста в 2028 году.

Хотя доля Китая в выручке ASML постепенно снижается, страна по-прежнему остаётся одним из крупнейших покупателей оборудования компании.

До мирового уровня ещё далеко

Независимые аналитики считают, что говорить о полном импортозамещении пока преждевременно.

По оценке проекта AI Futures Project, китайским производителям потребуется ещё немало времени для вывода собственных DUV-литографов на уровень массового промышленного применения. Кроме того, квалификация нового оборудования для серийного производства может занять многие месяцы.

Эксперты также отмечают, что по производительности, надёжности и качеству изготовления китайские установки пока уступают решениям ASML.

С EUV ситуация ещё сложнее

Ещё более серьёзным вызовом остаётся создание оборудования для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), необходимой для производства самых современных микросхем.

Работы в этом направлении в Китае продолжаются, однако существующие проекты пока находятся на стадии исследований и прототипов. До появления полноценной коммерческой EUV-системы ещё предстоит решить большое количество сложнейших инженерных задач.

Почему это важно

Даже если первые китайские DUV-литографы не смогут сразу конкурировать с оборудованием ASML, их запуск имеет стратегическое значение.

Собственное производство подобных установок позволяет Китаю постепенно формировать независимую цепочку выпуска полупроводников, снижать влияние экспортных ограничений и ускорять развитие национальной микроэлектроники. Для мировой индустрии это означает усиление конкуренции и дальнейшее разделение глобального рынка оборудования для производства микросхем.