В российской микроэлектронике произошёл значимый сдвиг: впервые в стране созданы отечественные кластерные установки для плазмохимического осаждения и плазмохимического травления. Эти системы необходимы для выпуска микросхем по нормам 65 нм, сообщает издание «Ведомости». Разработкой занимались НИИМЭ и НИИТМ — научные институты, входящие в группу компаний «Элемент».

Новые установки адаптированы для работы с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм. Поддержка 300-миллиметровых пластин особенно важна, поскольку именно такие линии считаются современным стандартом мировой полупроводниковой промышленности.

Россия вошла в узкий круг разработчиков подобного оборудования

По данным «Элемента», отечественные институты теперь находятся среди всего пяти мировых организаций, способных создавать подобные системы. Основная часть работ была выполнена в НИИМЭ: там построили чистые помещения, собрали и протестировали опытные образцы, а также разработали технологические режимы. НИИТМ же отвечал за инженерную часть — от конструирования оборудования до участия в испытаниях.

Заместитель министра промышленности и торговли Василий Шпак отметил, что появление платформы для 65-нм техпроцесса на 300-мм пластинах закрывает важные запросы отечественной микроэлектроники на ближайшие годы. Ключевым преимуществом он назвал модульную архитектуру установок: она позволяет не только внедрять новые процессы без полной перестройки производственных линий, но и станет точкой опоры для дальнейшего перехода к более тонким технологическим нормам.

Технология не новая, но всё ещё практичная

Хотя ведущие компании рынка перешли к 65 нм почти два десятилетия назад — в 2004 году — эта норма остаётся востребованной. Массовые чипы Intel Pentium 4 (Cedar Mill), Core, Core 2 и Core 2 Duo производились на подобном техпроцессе с 2006 года. Сегодня же 65 нм по-прежнему используются при выпуске недорогих контроллеров, датчиков, специализированных микросхем, где критична не плотность транзисторов, а надёжность и стоимость производства.

В «Элементе» подчеркнули, что разработанные установки совместимы как с действующими производствами, работающими с 200-мм пластинами, так и с перспективными фабриками, которые будут созданы в ближайшие годы. Главы НИИМЭ Александр Кравцов и НИИТМ Михаил Бирюков назвали проект серьёзным шагом к снижению зависимости России от зарубежного технологического оборудования.

Финансирование отрасли не соответствует плановым показателям

Параллельно с презентацией новых систем Василий Шпак сообщил о серьёзном недофинансировании федеральной программы развития электронного машиностроения. По его словам, недостающий объём средств составляет 33,1 млрд рублей. Это приводит к тому, что к концу 2025 года отставание по НИОКР может превысить 60 проектов.

Цифры, приведённые Шпаком, свидетельствуют о существенном снижении реальных расходов по сравнению с планами:
— в 2024 году планировалось выделить 43,3 млрд рублей, но было предоставлено лишь 23,7 млрд;
— в 2025-м вместо ожидаемых 40 млрд предусмотрено только 15,7 млрд;
— на 2026 год заложено 30 млрд рублей;
— в 2027 и 2028 годах — по 25 млрд ежегодно.

По мнению экспертов отрасли, недостаток финансирования может замедлить переход российских предприятий к более современным техпроцессам и увеличить зависимость от импортного оборудования, несмотря на локальные успехи, такие как создание новых ПХО- и ПХТ-систем.