Несмотря на жёсткие экспортные ограничения со стороны США и их союзников, китайская полупроводниковая отрасль продолжает двигаться вперёд. Журналисты и отраслевые аналитики выяснили, что ключевую роль в этом играет нетривиальный подход: глубокая модернизация устаревшего, но формально разрешённого оборудования ASML с глубоким ультрафиолетом (DUV).

Этот путь не даёт Китаю прямого доступа к самым современным технологиям, однако позволяет выжать максимум из того, что уже находится на его заводах, выявляя слабые места в системе экспортного контроля.

---

Ограничения на оборудование: что запрещено, а что осталось доступным

США и Нидерланды ввели строгие запреты на поставки в Китай передовых литографических машин ASML. Полностью закрыт доступ к установкам с экстремальным ультрафиолетовым излучением (EUV), которые являются основой производства чипов по самым тонким техпроцессам. Кроме того, под ограничения попали и новые поколения DUV-литографов.

В результате многие китайские фабрики оказались вынуждены работать на оборудовании прошлых лет, включая такие системы, как ASML Twinscan NXT:1980i. Формально эти машины не обеспечивают тех уровень точности, который требуется для современных 7-нанометровых и более тонких норм.

---

Производство 7 нм без EUV: как это стало возможным

По данным источников в отрасли, китайским компаниям удалось адаптировать DUV-оборудование для выпуска чипов, соответствующих уровню около 7 нм. Такие микросхемы уже применимы в ускорителях искусственного интеллекта и высокопроизводительных вычислениях.

Важно понимать, что современные «нанометры» — это скорее обозначение технологического поколения, а не точный физический размер элементов. Тем не менее достижение сопоставимого уровня плотности транзисторов без EUV считается крайне сложной задачей.

---

Вторичный рынок и скрытая модернизация

Ключевым фактором успеха стала доработка оборудования. По информации инсайдеров, китайские производители закупали на вторичном рынке усовершенствованные платформы для кремниевых пластин, более точные оптические модули и современные системы выравнивания слоёв.

Такие компоненты позволили:

• повысить точность наложения слоёв;

• улучшить выход годных чипов;

• частично компенсировать ограничения по производительности.

Формально эти действия не нарушают прямых запретов на поставку новых литографов, однако фактически приближают возможности старых машин к более современному уровню.

---

Роль SMIC и Huawei

Среди компаний, которые, по неофициальным данным, используют подобные подходы, чаще всего упоминаются Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) и Huawei. Аналитики считают, что именно на этих мощностях производятся наиболее продвинутые китайские процессоры последних лет.

Масштаб такого производства пока остаётся неясным, однако наличие готовых коммерческих чипов указывает на то, что речь идёт не об экспериментальных образцах, а о реальных серийных изделиях.

---

Многократная экспозиция как альтернатива EUV

Технологически процесс строится на многократном экспонировании пластин с помощью DUV-литографов. Это позволяет формировать более мелкие элементы, которые в других условиях создавались бы с применением EUV.

У такого подхода есть серьёзные минусы:

• снижение скорости производства;

• рост себестоимости;

• повышенный риск дефектов.

Тем не менее модернизация отдельных узлов оборудования помогает частично нивелировать эти проблемы за счёт роста точности и стабильности процессов.

---

Давление США и позиция ASML

Вашингтон продолжает усиливать давление на партнёров, включая Нидерланды, Японию и Южную Корею, добиваясь расширения контроля по всей цепочке поставок. Речь идёт не только о продаже оборудования, но и об ограничении сервисного обслуживания и технической поддержки ранее поставленных машин.

ASML официально заявляет, что строго соблюдает все действующие законы. Компания сохраняет право обслуживать уже установленное в Китае оборудование, но не имеет права повышать его точность или производительность сверх установленных лимитов.

---

Обход ограничений без участия ASML

В то же время источники утверждают, что модификации выполнялись сторонними инженерными компаниями, которые работали непосредственно на заводах, используя импортные компоненты. Это позволяло обходить ограничения без прямого участия ASML, оставаясь в серой зоне регулирования.

Бюро промышленной безопасности США уже изучает возможные каналы такой поддержки и рассматривает сценарии дальнейшего ужесточения правил, вплоть до ограничений на любое обслуживание DUV-оборудования.

---

Экономический контекст и перспективы

Для ASML Китай остаётся одним из ключевых рынков. В 2024 году на него приходилось более трети глобальной выручки компании — заметно больше, чем годом ранее. Однако сама ASML предупреждает инвесторов, что по мере полного вступления санкций в силу продажи будут сокращаться.

Аналитики отмечают, что уже установленная база оборудования даёт китайским производителям пространство для дальнейших экспериментов и локальных инноваций.

---

Итог: ограничения замедляют, но не останавливают

Отраслевые эксперты сходятся во мнении: модернизация устаревших DUV-систем не может полностью заменить доступ к передовым технологиям, которыми располагают TSMC или Samsung. Производство остаётся более дорогим и менее эффективным.

Тем не менее текущий прогресс Китая демонстрирует, что экспортный контроль способен затормозить развитие, но не способен полностью его остановить. В условиях технологической изоляции китайская полупроводниковая отрасль продолжает искать и находить обходные пути.