В Китае тайно разработан экспериментальный фотолитограф нового поколения, использующий экстремальное ультрафиолетовое излучение (EUV). По данным источников, проект реализовала команда бывших инженеров ASML, применивших методы обратного проектирования оборудования нидерландской компании. Установка уже функционирует и способна стабильно генерировать EUV-излучение, однако до производства полноценных микрочипов дело пока не дошло.

Неожиданный прогресс вопреки прогнозам

Ещё весной генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявлял, что Китаю потребуются «многие годы» для освоения EUV-литографии. Однако появление рабочего прототипа указывает на то, что разрыв может быть существенно меньше, чем считалось ранее. По оценкам осведомлённых лиц, при текущих темпах Китай рассчитывает выйти на выпуск работоспособных чипов примерно к 2028 году.

Ключевую роль в этом сыграла доступность компонентов от устаревших машин ASML на вторичных рынках. Они стали основой для сборки и тестирования собственной установки.

«Китайский Манхэттенский проект»

Разработка стала итогом шестилетней государственной программы по достижению технологической независимости в полупроводниковой отрасли. Хотя Пекин публично заявлял о таких целях, проект создания собственного EUV-литографа реализовывался в условиях строжайшей секретности и внутри страны получил неофициальное название «китайский Манхэттенский проект».

Основная задача — наладить производство передовых микросхем на оборудовании, полностью разработанном и произведённом внутри Китая, без зависимости от западных цепочек поставок.

Почему EUV — ключевая технология

На сегодняшний день только ASML сумела довести EUV-литографию до промышленного уровня. Каждая такая машина стоит около 250 миллионов долларов и является критически важной для выпуска самых современных чипов, используемых Nvidia, AMD и другими разработчиками, а также производимых на фабриках TSMC, Intel и Samsung.

Путь ASML к коммерческому успеху занял почти 20 лет: первый рабочий прототип был создан в 2001 году, а массовое производство чипов с применением EUV началось лишь в 2019-м.

Экспортные ограничения и их обход

Системы EUV ASML поставляются только странам — союзникам США. С 2018 года Вашингтон оказывал давление на Нидерланды, добиваясь полного запрета экспорта таких машин в Китай. В 2022 году ограничения были расширены и затронули даже оборудование предыдущего поколения на базе DUV-литографии.

ASML официально утверждает, что ни одна EUV-система никогда не продавалась китайским компаниям. Тем не менее Китай использует альтернативные пути: разбор старых машин, закупку комплектующих через вторичные рынки и сложные цепочки посредников для сокрытия конечного покупателя.

Кадры решают всё

Особое внимание в проекте уделялось подбору персонала. В разработке участвуют около 100 специалистов, среди которых — недавно вышедшие на пенсию инженеры и учёные ASML китайского происхождения. Их опыт оказался критически важным: без глубокого понимания архитектуры EUV-систем реверс-инжиниринг был бы практически невозможен.

Набор сопровождался беспрецедентными мерами безопасности:

• использование поддельных удостоверений личности;

• постоянное видеонаблюдение за рабочими местами;

• система финансовых поощрений за конкретные результаты.

В рамках государственной программы привлечения специалистов предлагались бонусы за подписание контрактов в размере до 5 млн юаней, жилищные субсидии и исследовательские гранты. В отдельных случаях допускалось сохранение двойного гражданства, несмотря на формальный запрет в китайском законодательстве.

Технические ограничения прототипа

Современные EUV-машины ASML сопоставимы по размеру с автобусом и весят до 180 тонн. Китайский прототип, по словам источников, оказался ещё более массивным и заметно уступает оригиналу по уровню инженерной проработки.

Основная проблема — оптика. ASML использует уникальные зеркальные системы от немецкой Carl Zeiss, и повторить их характеристики крайне сложно. Несмотря на это, Чанчуньский институт оптики, точной механики и физики (CIOMP) сообщил о прогрессе в интеграции EUV-излучения в оптический тракт. Именно это позволило начать испытания установки в начале 2025 года, хотя до стабильной работы ещё далеко.

Роль Huawei

Хотя проект формально курируется государством, ключевым промышленным участником выступает Huawei. Компания задействована практически на всех этапах — от проектирования чипов и оборудования до финальной интеграции. По данным источников, глава Huawei Жэнь Чжэнфэй лично докладывает высшему руководству КНР о ходе работ.

Перспективы

Бывший инженер ASML Джефф Кох считает, что успех Китая — вопрос времени. По его словам, при условии создания достаточно мощного, надёжного и «чистого» источника EUV-излучения технология вполне реализуема. При этом Китай находится в более выгодном положении, чем ASML в начале пути, поскольку коммерческая EUV-литография уже существует и может служить ориентиром.

Таким образом, несмотря на серьёзное технологическое отставание от ASML, Китай вплотную приблизился к созданию собственной EUV-экосистемы. Если заявленные планы будут реализованы, это может существенно изменить баланс сил в мировой полупроводниковой индустрии уже к концу десятилетия.