Норвежская компания Lace Lithography объявила о привлечении $40 млн инвестиций в рамках первого раунда финансирования. Средства направят на разработку принципиально нового литографического сканера, в котором вместо фотонов используется пучок нейтральных атомов гелия.

Проект поддержан Microsoft и уже рассматривается как потенциальный шаг за пределы современных EUV-технологий.

В чём суть технологии

Сегодняшние передовые литографические системы, включая EUV-сканеры, работают с излучением длиной волны около 13,5 нм. Это физическое ограничение накладывает предел на минимальный размер элементов, которые можно формировать на чипах.

Lace предлагает иной подход:

• вместо света — поток нейтральных атомов гелия
• ширина пучка — около 0,1 нм
• отсутствие дифракционного ограничения

Фактически речь идёт о работе на уровне отдельных атомов. В компании называют эту технологию BEUV (Beyond EUV), подчёркивая её выход за рамки классической фотолитографии.

Потенциал: почти атомная точность

По словам генерального директора и соучредителя Lace Бодил Хольст, новая технология в перспективе позволит добиться «атомного разрешения» при производстве микросхем.

Эксперты отрасли также оценивают потенциал крайне высоко. В Imec считают, что такой подход может уменьшить размеры транзисторов и других элементов на порядок по сравнению с текущими возможностями — до уровней, которые ещё недавно казались недостижимыми.

Чем это отличается от других разработок

Сейчас несколько компаний пытаются создать альтернативу доминирующим решениям ASML:

• Substrate и xLight работают с источниками EUV и рентгеновского излучения на базе ускорителей частиц
• Canon развивает наноимпринтную литографию
• китайская Prinano также продвигает собственные решения в этой области

Однако Lace идёт по принципиально другому пути — полный отказ от фотонов в пользу атомных пучков. Это делает технологию уникальной среди всех текущих разработок.

Реальность внедрения: долгий путь впереди

Несмотря на многообещающие результаты, технология пока находится на ранней стадии. Компания уже создала прототипы, но переход от лабораторных установок к промышленному производству остаётся серьёзным вызовом.

Планы Lace включают:

• запуск пилотного испытательного стенда к 2029 году
• дальнейшую проработку технологии перед коммерческим внедрением

При этом сроки выхода на массовое производство пока не раскрываются.

Контекст: опыт ASML

История EUV-литографии показывает, насколько сложен этот путь. Компании ASML потребовались десятилетия разработок и многомиллиардные инвестиции, чтобы превратить технологию в коммерческий стандарт.

Это означает, что Lace предстоит пройти не менее сложный этап — от перспективной идеи до промышленного решения.

Кто стоит за проектом

На данный момент в Lace Lithography работает более 50 специалистов, распределённых между Норвегией, Испанией, Великобританией и Нидерландами.

Первые результаты исследований компания представила на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026, где проект привлёк внимание профессионального сообщества.

Итог

Lace Lithography предлагает радикально новый подход к производству микросхем — с потенциальным переходом к атомарному уровню точности.

Если технология сможет преодолеть барьер между лабораторией и промышленностью, она может изменить правила игры в полупроводниковой индустрии. Пока же это один из самых амбициозных и одновременно рискованных проектов в области литографии.