В условиях ограниченного доступа к современному литографическому оборудованию из-за санкций Китай активно развивает собственные технологии производства микросхем. Одной из наиболее перспективных альтернатив стала нанопечать (Nanoimprint Lithography, NIL) — технология, основанная на механическом переносе наноструктур на подложку с помощью высокоточного штампа.

Что такое импринтная литография и почему она важна

Импринтная литография отличается от традиционной оптической тем, что изображение микросхемы формируется не с помощью света, а путём давления твёрдого штампа на фоточувствительный слой. Это позволяет добиться высокой точности и одновременно снизить затраты на материалы. Несмотря на нишевое применение NIL в фотонике, MEMS и биомедицинских чипах, технология ещё не была готова для массового выпуска микросхем с нормами ниже 5 нм.

Новая разработка компании Pulin Technology

Китайская компания Pulin Technology разработала и успешно испытала новую установку серии PL-SR для импринтной литографии, работающую по принципу step-and-repeat — пошагового нанесения отпечатка шаблона.
Ключевые особенности:

• Капельное нанесение фоторезиста, что экономит расход материала;

• Поддержка 12-дюймовых (300 мм) кремниевых пластин, подходящих для массового производства;

• Способность создавать структуры с технологическими нормами порядка 10 нанометров.

Сравнение с западными технологиями

PL-SR повторяет возможности нанопечатной установки Canon FPA-1200NZ2C 2023 года, которая уже поставлена в Техасский институт электроники (TIE, США). Однако в отличие от EUV-литографии, где требуются сложные лазерные источники и зеркальная оптика, импринтная технология не нуждается в таких дорогостоящих компонентах, что делает её потенциально более доступной и надёжной.

Практическое применение и будущее

Первая машина PL-SR уже принята китайской фабрикой по производству полупроводников, успешно прошла испытания и готова к запуску серийного производства микросхем, включая память, кремниевую фотонику и микродисплеи.

Значение для полупроводниковой индустрии

Появление собственного 10-нм импринтного литографа — важный шаг Китая к технологической независимости и развитию национального полупроводникового производства. Это поможет снизить зависимость от санкционного западного оборудования и ускорить локализацию ключевых производственных процессов.